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晶棒成长 -- 晶棒裁切与检ce -- 外径研磨 -- 切片 -- 圆边 -- 表层研磨 -- 蚀刻 -- 去疵 -- 抛光 -- 清洗 -- 检验 -- 包装
1、晶棒成长工序:它又可细分为:
1)、融化(Melt Down):将块状的高纯度复晶硅置于石英坩锅内,加热到其熔点1420°C以上,晶圆包装机使其完quan融化。
2)、颈部成长(Neck Growth):待硅融浆的温度稳定之后,将〈1.0.0〉方向的晶种慢慢插入其中,接着将晶种慢慢往上提sheng,使其直径缩小到一定尺寸(一般约6mm左右),维持此直径并拉长100-200mm,以消cu晶种内的晶粒排列取向差异。
3)、晶冠成长(Crown Growth):颈部成长完成后,慢慢降di提sheng速度和温度,使颈部直径逐渐加da到所需尺寸(如5、6、8、12寸等)。
4)、晶体成长(Body Growth):不断调整提sheng速度和融炼温度,维持固定的晶棒直径,直到晶棒长度达到预定值。
5)、尾部成长(Tail Growth):当晶棒长度达到预定值后再逐渐加快提sheng速度并提高融炼温度,使晶棒直径逐渐变小,以避免因热应力造成排差和滑移等现象产生,zui终使晶棒与液面完quan分离。到此即得到一根完整的晶棒。
2、晶棒裁切与检ce(Cutting & Inspection):将长成的晶棒去掉直径偏小的头、尾部分,并对尺寸进行检ce,以决定下步加工的工艺参数。
3、外径研磨(Surface Grinding & Shaping):由于在晶棒成长过程中,其外径尺寸和圆度均有一定偏差,其外园柱面也凹凸不平,所以必须对外径进行修整、研磨,使其尺寸、晶圆包装机形状误差均小于允许偏差。
4、切片(Wire Saw Slicing):由于硅的硬度hen大,所以在本工序里,采用环状、其内径边缘镶嵌有钻石颗粒的薄片锯片将晶棒切割成一片片薄片。
5、圆边(Edge Profiling):由于刚切下来的晶片外边缘很锋利,硅单晶又是脆性材料,为避免边角崩裂影响晶片强度、破坏晶片表面光洁和对后工序带来污染颗粒,必须用专用的电脑控制设备自动修整晶片边缘形状和外径尺寸。
6、研磨(Lapping):研磨的目的在于去掉切割时在晶片表面产生的锯痕和破损,使晶片表面达到所要求的光洁度。