半导体设备的各方面内容

半导体设备的各方面内容

由于半导体的特殊性，制造过程必须有清洁度要求。环境中的杂质会改变或破坏半导体的特性。因此，在半导体器件的生产过程中，对生产车间的防尘要求很高，因为各种杂质都可能对产品产生影响，如金属离子会破坏半导体器件的导电性，粉尘颗粒会破坏半导体器件的表面结构半导体器件等，稍有不慎就可能导致半导体性能下降，因此许多半导体企业在厂房建设之初就特别注重厂房的密封性、防尘和防虫性。影响车间清洁的主要因素是人和货物经常出入的门。由于人和货物经常出入，不仅会带来大量的细·菌和杂质，而且会增加车间内外的空气对流。另外，现在雾霾天气严重，空气中的杂质普遍超标，进入车间很容易影响产品。因此，许多企业规定应安装快速卷帘门。

以及 等离子UV光解一体机 UV光解和等离子技术是现今应用于农业生产体系废气降解超常用的两种方法。采用这两种办法，都能将废气中的农业生产体系成份，分解为无害的水及二氧化碳，并预防了二次污染。但这两种方法，仍各有优缺点。 UV光解是利用特殊的低压紫外灯管能同时发射出185nm紫外线和254nm紫外线的双光谱特性。灯管发射出的185nm紫外线，能触发空气中的O2（氧），转化为O3（臭氧）。臭氧具有很强的氧化能力，其与废气中的碳氢化合物（如苯类、烃类、醇类、脂类等）充分混合接触后，在灯管发射出的254nm紫外线的照射催化条件下，能将这些有害污染物，直接氧化分解为水和二氧化碳。由此可见，紫外灯管发。